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    400-677-0098
    熱解氮化硼化學氣相生長爐
    熱解氮化硼化學氣相生長爐
    產品描述:
    用于氮化硼的化學氣相涂層與生長
    應用范圍:
    OLED坩堝、PBN板材/環舟、VGF坩堝、LEC坩堝等。產品純度≥99.999%/99.9999%。

    熱解氮化硼化學氣相生長爐技術特征

    采用先進的進控制技術,能精密控制BCl3/NH3的流量和壓力,爐膛內沉積氣流穩定,壓力波動??;

    多通道工藝氣路,配合旋轉料臺,無沉積死角;

    多級尾氣處理系統,能高效處理腐蝕性尾氣、固體副產物,環境友好;

    可選配最新設計的防腐蝕真空機組,持續工作時間長,維修率低;

    適于工藝氣氛:真空/H2/N2/Ar/BCl3/NH3。


    熱解氮化硼化學氣相生長爐產品規格

    參數\型號VCVD-0305-BNVCVD-0608-BNVCVD-0612-BNVCVD-0812-BNVCVD-1015-BNVCVD-1218-BNVCVD-1315-BNVCVD-1520-BN
    工作區尺寸 φ×H(mm)300×500600×800600×1200800×12001000×15001200×18001300×15001500×2000
    最高溫度(℃)2000
    溫度均勻性(℃)±5±7.5/±10±7.5/±10±7.5/±10±10/±15±10/±15±10/±15±15/±20
    極限真空度(Pa)1-100
    壓升率(Pa/h)0.67
    加熱方式電阻

    以上參數可根據工藝要求進行調整,不作為驗收依據,具體以技術方案和協議為準。

    熱解氮化硼化學氣相生長爐配置選擇

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